从细分种类来看，根据工艺技术的不同，CVD设备可分为PECVD、APCVD/LPCVD、ALCVD、VPE等设备，其中APCVD/LPCVD与PECVD为主要CVD设备，其占比分别为37%、36%。
种类 |
特点 |
常压化学气相沉积（APCVD） |
结构简单；沉积速率高 |
低压化学气相沉积（LPCVD） |
提高了薄膜均匀性；改善了沟槽覆盖填充能力 |
等离子体化学气相沉积（PECVD） |
反应温度降低；提高了薄膜纯度与密度 |
气相外延（VPE） |
设备简单；生长的GaAs纯度高；电学特性好 |
原子层化学气相沉积（ALCVD） |
具备优异的沉积均匀性和一致 |
由于CVD设备的应用对于集成电路制造行业有着不可忽视的作用，我国政府陆续出台了一系列政策扶持CVD设备产业发展。
政策名称 |
主要内容 |
《中国制造2025》 |
提升封装、测试产业的自主发展能力，形成关键制造设备的供货能力。 |
《我国集成电路产业“十三五”发展规划建议》 |
关键装备和材料进入国际采购体系，基本建成技术先进、安全可靠的集成电路产业体系。 |
《国家高新技术产业开发区“十三五”规划》 |
优化产业结构，推进集成电路及专用装备关键核心技术突破和应用。 |
《“十三五”国家科技创新规划》 |
攻克14nm刻蚀设备、薄膜设备、掺杂设备等高端制造装备及零部件，突破28nm浸没式光刻机及核心部部件。 |
《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》项目(02专项) |
构建光刻设备和封测等产业技术创新联盟，集合产业链上制造工艺、装备、相关零部件和材料等上下游企业、相关研究机构和高等院校达200多家单位共同开展产学研用协同攻关。 |
在政策扶持下，我国CVD设备市场规模不断扩大。数据显示，2020年我国AP/LPCVD设备市场规模将从2018年的58亿元扩大到64亿元，PECVD设备市场规模将从2018年的56亿元扩大到61亿元。
在未来发展中，国内企业需不断提高核心竞争力，加速技术研发，以实现国产化替代。从国内竞争情况来看，目前我国CVD设备的主要生产企业包括北方华创和沈阳荆拓，随着CVD设备相关技术的研发，这两家企业或将成为我国CVD设备国产化率大幅提升的主要动力源。
企业名称 |
简介 |
北方华创 |
北方华创是我国生产半导体设备的主要企业，其主导产品有CVD、PVD、刻蚀机、氧化炉等，均是我国进口价值比较高、技术难度较大的装备。但北方华创在国内市场的占有率不足2%，目前相关技术仍在不断研发当中。 |
沈阳荆拓 |
沈阳拓荆拥有12英寸PECVD、ALD、3DNAND PECVD三个完整系列产品，技术指标达到国际先进水平。目前生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，支撑年产值50亿元的产业规模。 |
相关行业分析报告参考《2020年中国CVD设备市场调研报告-产业规模现状与发展前景评估》。
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