基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。
参考观研天下《2019年中国光刻胶市场分析报告-市场供需现状与发展动向研究》
按应用领域分类，光刻胶可分为PCB 光刻胶、LCD 光刻胶、半导体用光刻胶。
主要类型 |
主要类型 |
PCB 光刻胶 |
干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等 |
LCD 光刻胶 |
彩色滤光片用彩色光刻胶及黑色光刻胶、LCD/TP衬垫料光刻胶、TFT–LCD中Array用光刻胶等 |
半导体用光刻胶 |
G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶等 |
其他 |
CCD摄像头彩色滤光片的彩色光刻胶、MEMS光刻胶、触摸屏透明光刻胶、生物芯片光刻胶 |
光刻胶产业链覆盖范围非常广，上游为基础化工材料行业、精细化学品行业，中游为光刻胶制备，下游为电子加工厂商、各电子器产品应用终端。由于上游产品直接影响下游企业的产品质量，下游行业企业对公司产品的质量和供货能力十分重视，常采用认证采购的模式。由于对采购成本和认证成本的控制，上游供应商和下游采购商形成了比较稳固的合作模式，新的供应商加入供应链比较困难。
我国化工产品原料品种齐全，可以为光刻胶产业提供充足和价格低廉的基础原料供给，但是由于资金和技术的差距，生产光刻胶的原料如引发剂、增感光刻胶树脂等被外资垄断导致光刻胶自给能力不足。当下电子产业链已经主要被日本、韩国、台湾地区的大公司控制，我国电子化学品供应商要突破现有的产业格局需要在研发、市场开拓方面付出巨大的努力。
2011-2017 年我国光刻胶需求量与市场规模连续增长，至2017年我国光刻胶需求量已达7.99万吨，年复合增长率达14.69%；市场规模达到58.7亿元，年复合增长率达11.59%。光刻胶需求量远大于本土产量，我国光刻胶产业仍有大量的发展空间。
据统计资料显示，2017年中国光刻胶行业产量达到7.56万吨，较2016年增加0.29万吨，其中，中国本土光刻胶产量为4.41万吨，与7.99万吨的需求量差异较大，说明我国供给能力还需提升。
2011-2017年，中国光刻胶均价也整体呈现下降趋势，近几年，由于我国高端光刻胶产能的提升，光刻胶的均价也有所升高，2017年中国光刻胶的均价为7.35万元/吨。
光刻胶处于各行业产业链上游，具有举足轻重的地位。当前中美贸易摩擦持续，美方试图通过关税、禁运等途径对我国关键材料进行封锁、制约我国半导体及相关产业发展，因此，我国必须快速推进半导体产业及关键材料、设备的国产化率，避免对产业链造成重创。
从技术水平来看，PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的，飞凯材料已经在高端的湿膜光刻胶领域通过下游厂商验证；面板光刻胶进度相对较快，目前永太科技CF 光刻胶已经通过华星光电验证；半导体光刻胶目前技术较国外先进技术差距较大，仅在G 线与I 线有产品进入下游供应链，北京科华目前KrF(248nm)光刻胶目前已经通过中芯国际认证，ArF(193nm)光刻胶正在积极研发中。
主要类型 |
细分类型 |
国内规模（亿元） |
年增速 |
国产化进程 |
PCB光刻胶（320-450nm） |
干膜光刻胶 |
32.1 |
7-8% |
几乎全部进口，飞凯材料湿膜光刻胶已具备量产能力，下游验证较快 |
湿膜光刻胶 |
20 |
5-6% |
||
光固化阻焊油墨 |
17.2 |
7-9% |
自给率约15%左右，国内厂家差距不大 |
|
面板光刻胶 |
彩色和黑色光刻胶 |
5 |
10% |
几乎进口，国内永太科技CF光刻胶目前已经通过华星光电验证，未来将逐步放量 |
LCD触摸屏光刻胶 |
1.1-1.5 |
>10% |
苏州瑞红占30%-40%，其他台湾新应材料及台湾凯阳 |
|
TFT正性光刻胶 |
5-6 |
<10% |
大部分进口 |
|
LED光刻胶 |
宽谱g/i/h线（365/405/433nm） |
2-3 |
25% |
多进口，国内自由基引发剂以久日新材料为主，阳离子引发剂销售以强力新材料为主 |
半导体光刻胶 |
磺化橡胶类光刻胶 |
0.3 |
10-15% |
用于4-5寸分立器件，国内已基本完成替代进程 |
g/i线光刻胶 |
2 |
约15% |
目前北京科华、苏州瑞红已实现部分替代，其余来自台湾和日本等法躲国家与地区 |
|
KrF/ArF光刻胶 |
5 |
约20% |
几乎全部进口，国内北京科华KrF光刻胶通过中芯国际认证，其他处于研发阶段，ArF光刻胶仅有北京科华立项 |
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