中国报告网提示：光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。
光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。光刻机产品分类（按有无掩模分类）
资料来源：公开资料整理
从全球范围内来看，IC前道光刻机技术最为复杂，但随着相关技术水平的不断提高，其产品销量不断增长。数据显示，2016-2018年全球IC制造前道光刻机销量整体处于上升趋势，2018年出货量达到374台；2019年略有下降，出货量为359台。
2016-2019年全球IC制造前道光刻机出货量
数据来源：公开资料整理
目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的NIKON和CANON所占据主动权，呈三足鼎立局面。其中，在2019年全球光刻机市场竞争格局中，荷兰ASML公司市场份额占比最大。
2019年全球光刻机市场竞争格局
数据来源：公开资料整理
数据显示，2014-2018年，全球光刻机Top3企业销售量呈现波动增长的态势,2019年有所下滑，销售量为354台，同比下降3.8%。截止到2020年Q1，全球Top3企业销售量实现85台。
2014-2020年Q1光刻机Top3企业销售量（单位：台）
数据来源：企业公报
从国内角度来看，由于光刻机是半导体产业中的关键设备，光刻机行业成为我国重点发展产业，我国政府相关部门积极出台政策及措施，在资金、人才、进出口以及投融资等方面提高支持。
我国光刻机行业相关政策
| 政策名称 |
主要内容 |
| 《国家高新技术产业开发区“十三五”规划》 |
优化产业结构，推进集成电路及专用装备关键核心技术突破和应用。 |
| 《“十三五”国家科技创新规划》 |
浸没式光刻机及核心部件，研发14nm逻辑与存储芯片成套工艺及相应系统封测技术，形成28-14nm装备、材料、工艺、封测等较完整的产业链。 |
| 《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》项目(O2专项） |
攻克14nm刻蚀设备、薄膜设备、掺杂设备等高端制造装备及零部件，突破28nm构建光刻设备和封测等产业技术创新联盟，集合产业链上制造工艺、装备、相关零部件和材料等上下游企业、相关研究机构和高等院校达200多家单位共同开展产学研用协同攻关，引导地方和社会的产业投资跟进，扶植专项支持的企业做大做强，推动成果产业化，形成产业规模，提高整体产业实力。 |
资料来源：公开资料整理
我国光刻机行业政策扶持方向
资料来源：公开资料整理
长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，但在政策驱动下，行业相关企业正在加快研发进度。目前，在我国光刻机市场中，上海微电子(SMEE)一枝独秀，成为最有竞争优势的企业。2020年6月初，上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机，预示着国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。随着技术水平的不断提高，我国光刻机市场竞争力也将得到增强。
我国光刻机相关领先企业技术进展情况
| 公司名称 |
量产精度 |
| 上海微电子装备有限公司 |
90纳米 |
| 中子科技集团公司第四十五研究所国电 |
1500纳米 |
| 合肥芯硕半导体有限公司 |
200纳米 |
| 先腾光电科技有限公司 |
800纳米 |
| 无锡影速半导体科技有限公司 |
200纳米 |
资料来源：公开资料整理（shz）
相关行业分析报告参考《2020年中国光刻机市场调研报告-市场竞争格局与发展动向研究》。
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中国报告网提示：光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。
